+ 期刊篇名: Analytical Subthreshold Behavior Model for Symmetrical Tri-Material Gate Stack Double-Gate MOSFETs=有關參材質對稱堆疊雙閘極金氧半場效電晶體之次臨界行為解析模型研究

期刊刊名:南台學報   卷期:35卷1期

篇名出版日期:2010年5月1日

作者:Mei-Li Chen,陳美利

語言:English

關鍵字:參材質堆疊雙閘極金氧半場效電晶體,熱載子效應,短通道臨界電壓衰變,短通道效應, Tri-Material Gate Stack Double Gate MOSFET, Hot-electron effects , Threshold voltage degradation, Short- channel effects

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