期刊刊名：崑山科技大學學報 　 卷期：10期

篇名出版日期：2015年9月1日

作者：林天財,蘇良慶,張慎周

語言：Chinese

關鍵字：ZnO:Al 薄膜,透明導電薄膜,塑膠基板,電漿處理,ZnO:Al films,Transparent conductive films,Plastic substrate,Plasma treatment

被點閱次數：5次

閱讀時間：13sec

摘要：
成長AZO 薄膜於塑膠基板上進行Ar、Ar:H2、H2 氣氛電漿處理，改變電漿處理製程壓力，藉此來改善AZO 薄膜之光電特性。研究中發現未經處理的AZO 薄膜電阻率為4.2×10⁻¹Ω-cm 平均光穿透率89.7%。經過氬氫電漿處理後，電阻率下降，在低壓的氬氫電漿處理，可獲得較佳電性，電阻率為4.26×10⁻²Ω-cm 、載子濃度為1.73×10²⁰ cm⁻³、載子遷移率為0.85 cm²/Vs，平均光穿透率為88%。高壓的氫氣電漿處理，其電阻率為1.72×10⁻²Ω-cm 、載子濃度為8.4×10²⁰ cm³、載子遷移率為0.92 cm²/Vs，平均光穿透率為91%。由上述結果可知經由電漿處理後皆可改善其薄膜性質，尤其是在高壓的純氫電漿處理，其效果最好。

　　　　　[全文下載]