期刊刊名：黎明學報 　 卷期：25卷1期

篇名出版日期：2014年1月31日

作者：高振育,孫長春,陳積德,蕭琤琤

語言：Chinese

關鍵字：水性光阻劑,水溶性樹脂,印刷電路板,黃光製程, Waterborne Photoresist, Watersoluble Polymer, PCB, Photolithography

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摘要：
以往所使用的光阻劑大都為溶劑型的光阻劑，在使用的過程中，溶劑會逸散或是揮發而造成環境污染。本研究開發PCB用水性液態負型光阻劑，以沉澱共聚合之方式合成NVP (N-vinyl- pyrrolidone )、與MAA ( Methacrylic acid )共聚合之樹脂，利用具有環氧乙烷基之GMA ( Glycidyl methacrylate )與樹脂反應而導入雙鍵成為感光基，以此親水性感光樹脂與感光液做配方評估，以0%至0.1% Na₂CO₃水溶液顯影後，經由配方評估測試：具有優良水分散性及儲存安定性，合成之感光高分子完全以水為溶劑，曝光能量僅需120mJ/cm²，解析度可達2mil，利於印刷電路板之應用製作，具有產業上利用價值。

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