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利用單靶濺鍍不同成分之鉭鈦合金薄膜及其特性之研究=Various Ratio of Ta-Ti Alloy Thin Films by RF Magnetron Sputtering Process and Single Target王錫九,李文德,陳適範,劉正威,薄慧雲,魏肇男黎明學報 28卷1期1983/3/1